成都商标注册必备要点

商标注册公司分享成都商标注册必备要点具体有以下几点：   

(一)具备商标的法定构成要点  商标的法定构成要点是指法律规定可以作为商标使用或者注册的标志。 在一些国家 ，无法通过视觉感知的“气味”、“音响”、“声音”等也能够作为商标使用和商标注册，如微软的视窗开机乐曲。由于我国现行商标法并没有对这些加以规定，目前我国保护的是以具有可视性的标志构成的商标，即文字、图形、字母、数字、三维标志、颜色组合及上述要点的组合。对不具有可视性的标志不能作为商标注册 。 

(二)具备显着性   商标的显着性，又称可识别性或者显着特征 ，是指商标使用于商品或其包装以及服务上时产生的 、引起消费者注意并凭此与其他商品或者服务相区别的效果。商标注册之时，必须要确定好显着性。一般认为，商标主要作用在于区别商品或者服务的出处或者来源 ，表示使用同一商标的商品或者服务具有同样的质量。商标没有显着性，就无法产生这些作用，就没有存在价值。所以商标需为具有显着性特征的标志才能获得注册。   

商标的显着特征根据其产生方式分为两类： 

一，商标固有的显着特征; 

二，商标通过使用而获得的显着特征。商标固有的显着特征是指商标的构成要点本身使它与其他任何标志存在区别，不至于混淆。商标通过使用而获得的显着特征是指商标本身的构成要点不具有显着特征，但通过长期使用和凭借商品质量的优异而成为公众熟悉的商标后，能使人看见该商标就知道有关商品源于某一生产经营者 ，从而具有区别商品出处的功能，产生显着性。 

商标本身是否具显着性，这是确保商标注册能被快速审核通过的必备条件之一。企业若想在短时间内落实商标注册工作，这个前期工作要做好。与此同时，选择一家专业化较强的机构做代理商，不失为一条好的途径。 

很多发展中的大企业都会申请发明专利，他们的创新能力和技术都有一定的水平，创造的新发明都能达到发明专利的申请条件，专利布局一步一步的做好了之后，企业在市场竞争中就占据了有利的地位，有一定的实力和资本，这对企业发展来说是至关重要的，发明专利的申请条件比实用新型专利以及外观设计专利要严格许多，今天小编就来跟大家一起了解一下。       

一、发明专利的含义   针对方式方法、配方、有比较大的技术改造。

产品发明包括：新产品、新材料、新物质等的技术方案。方法发明包括：制造方法、操作方法、工艺流程等技术方案。例如：药的配方、工艺授予专利权的发明和实用新型，应当具备新颖性、创造性和实用性。

二、发明专利的申请条件   想要申请发明专利需要达到三个标准，分别是： 

1、新颖性，是指在申请日之前没有同样的发明或者实用新型在国内外公开发表过、在国内公开使用过或者以其他方式为公众所知，也没有同样的发明或者实用新型由他人向专利局提出过申请并且记载在申请日以后公布的专利申请文件中。 

2、创造性，是指跟申请日之前已有的技术相比，该发明有突出的实质性特点以及显著的进步。 

3、实用性，是指该发明或者实用新型能够制造或者使用，并且能够产生积极效果。   

三、发明专利申请所需资料   满足了发明专利的申请条件之后，在申请之前还要准备好相应的资料，发明专利请求书、说明书、权利要求书、摘要以及其附图各一式两份。请求书应当写明发明或者实用新型的名称，发明人或者设计人的姓名，申请人姓名或者名称、地址，以及其他事项。      

发明专利的申请条件是对该专利质量的把控，达到条件的专利必定是优质的，一个企业如果拥有一定数量的专利成果，体现出的就是这个企业的强大实力；对于企业来说，不断创新，让自身的产品不断更新迭代，可以降低成本，提高效率，使得市场竞争力更强。

人们越来越重视专利权的保护，但大多数专利发明都是在原有知识和技术基础上的改进。此时，如何避免专利侵权是一个值得讨论和关注的问题。专利回避的目的是通过回避专利的保护范围来避免与专利权人的侵权诉讼。专利规避也是当前企业在市场竞争中的一种法律行为。那么外观专利规避保护方法有哪些呢？下面来让我们来看看以下内容:

(1)仅从专利文件中避免技术问题的设计中学习，通过专利文件了解新产品的性能指标或技术方案解决的技术问题。

(2)借鉴专利文献中避免背景技术的设计，并在此基础上创建不侵犯专利权的设计方案。

(3)借鉴专利文献中具体实施方案的发明内容和回避设计。在该过程中，一方面，搜索权利要求的一般省略，并且找到可以实现本发明目的但在权利要求中没有一般保护的实施例或相应变型。另一方面，可以通过应用本发明概述中提到的技术原理、理论基础或发明构思来创建不同于所要求保护的技术方案。

(4)借鉴规避专利审查相关文件的设计。业主在对诉讼审查意见的答复过程中，不得作出限制性解释和部分后悔，这些可能是实现发明目的的技术方案，但被排除在保护范围之外。

(5)借鉴专利权的回避设计。这种规避设计采用了与专利相似的技术方案，并且默认了至少一个技术特征，或者至少一个必要的技术特征不同于权利要求。这是最常见的规避设计，也是最接近专利保护范围的规避设计。